Тонкая плёнка (Thin Film) — это слой материала толщиной от нескольких нанометров до единиц микрометров (менее 100 мкм), синтезированный на подложке методами вакуумного осаждения. В микроэлектронике и приборостроении такие плёнки используются для создания функциональных элементов с особыми электрическими, оптическими или магнитными свойствами, недостижимыми в массивном материале.
Методы получения
Основные технологические процессы включают физическое осаждение из паровой фазы (PVD), такое как термическое испарение и магнетронное распыление (sputtering), и химическое осаждение из паровой фазы (CVD) при низком давлении. Процессы протекают в вакуумных установках, что обеспечивает высокую чистоту и контролируемую стехиометрию получаемых слоёв.
Применение в электронике
Тонкоплёночные технологии применяются для изготовления высокоточных резисторов и конденсаторов на гибридных схемах, токопроводящих дорожек и барьерных слоев в многоуровневых межсоединениях СБИС, металлизации кристаллов, а также для создания чувствительных элементов в датчиках и микромеханических системах (MEMS).
Контроль параметров
Толщина, однородность и удельное сопротивление плёнки контролируются методами эллипсометрии, рентгеновской рефлектометрии и четырёхзондовым методом. Требования к свойствам тонких плёнок регламентируются техническими условиями на конкретные изделия и общими стандартами, например, серией IEC 60747 для дискретных полупроводниковых приборов.
Источники: Общая терминология в технологии микроэлектроники, стандарты серии IEC 60747 на дискретные полупроводниковые приборы и интегральные схемы.