Существуют ситуации, когда технологам необходимо провести электронную литографию на диэлектрических подложках. Например, при экспонировании железоокисных фотошаблонов, создании нано- и микроструктур на пластинах кварца, сапфира или стекла (например, штампов для наноимпринтной литографии). При экспонировании таких подложек электронным лучом диэлектрик накапливает заряд, который отклоняет летящие к подложке электроны и делает невозможным дальнейшее экспонирование резиста (пример негативного воздействия показан на РИС.12). Данную проблему можно решить двумя способами:
- напылением поверх электронного резиста тонкого слоя металла
- нанесением проводящего полимерного покрытия методом центрифугирования.
- Читать полный текст статьи «Проводящие покрытия для электронной литографии на диэлектрических подложках».
По материалам: ВЕКТОР высоких технологий №2 (31) 2017