Уникальная система электронно-лучевой литографии позволяет отказаться от использования масок

По мнению разработчиков, такой подход сможет существенно упростить и ускорить процесс производства прототипов и мелких серий микрочипов. При этом крупносерийное производство по-прежнему останется прерогативой DUV и EUV, обладающих высокой производительностью в отличие от системы, созданной американскими стартапами.

Уникальной особенностью созданной системы является возможность настраивать отдельно каждый напечатанный чип благодаря тому, что лучи оборудования имеют независимые друг от друга индивидуальные каналы передачи данных. Луч вступает в роли сканирующего электронного микроскопа, указывая место записи.

Новое оборудование призвано расширить возможности в сфере изготовления электроники, дополнив существующие на сегодняшний день системы для EUV- и DUV-литографии.

При использовании новой системы производитель получает возможность сразу же начать нанесение рисунка, не дожидаясь изготовления маски, что обычно занимает несколько месяцев и требует больших финансовых вложений.

По материалам: russianelectronics.ru