В НИИМЭ начата разработка фоторезистов

Группа исследователей из Научно-исследовательского института молекулярной электроники (НИИМЭ), Институтов Российской академии наук и российских производственных компаний химической промышленности приступила к работе над проектом, целью которого является создание технологии изготовления отечественных фоторезистов.

Напомним, что фоторезисты – это материалы, обладающие способностью под действием света изменять свои свойства и приобретать устойчивость к химическому воздействию. Фоторезисты используются при производстве печатных плат и микросхем, а значит их импортозамещение является стратегически важной задачей для промышленной отрасли России.

Являясь одним из ведущих российских НИИ в области микроэлектроники, НИИМЭ в рамках поставленной задачи должен будет выполнить ряд теоретических и экспериментальных работ, а также создать методики измерений параметров материалов и метрологической экспертизы.

По материалам matushkino.mos.ru

Задать вопрос