Совершенный 2D-кристалл для электроники будущего удалось создать международному коллективу учёных.

Следует отметить, что, по мнению экспертов, современные технологии производства электроники уже исчерпали все возможности используемых материалов и технологий. Будущее электроники — за новыми материалами и новыми методами их применения в изготовлении чипов. Наиболее перспективными с этой точки зрения являются двусменные (2D) материалы, которые имеют уникальные свойства.

Особенность таких материалов — в их слоистой структуре. При этом внутри одного слоя атомы связаны жесткими ковалентными связями, а слои между собой — слабыми межмолекулярными связями Ван-дер-Ваальса. Долгое время контролируемое создание таких структур на стандартных полупроводниковых подложках было затруднено из-за возникновения дефектов на стыке формируемого материала и подложки. Причиной дефектов являлось структурное несоответствие между кристаллическими решетками, что делало 2D материал неэффективным, а значит непригодным к использованию в электронике.

Однако международная группа учёных сумела обойти это препятствие, разработав совершенно новую технологию выращивания 2D-кристаллов теллурида галлия на кремниевой подложке. Более того, полученный таким методом материал можно успешно адаптировать к технологии изготовления чипов, широко используемой в современном производстве микроэлектроники.

Учёные особо отметили, что помимо практического применения, их работа имеет важное научное значение. В ходе исследования им удалось выявить фундаментальные механизмы процесса выращивания 2D-структур на полупроводниках, что позволит и далее успешно развивать данную технологию.

По материалам ria.ru