Калькулятор Ticer создан для того, чтобы предоставить проектировщикам инструкцию, с помощью которой можно определять размер резистора на основе таких переменных, как значение резистора, рассеивание мощности, допуск и допуски по травлению. Калькулятор также помогает определить форму резистора, чтобы оптимизировать схему резистора на базе сопротивления слоя. Этот калькулятор доступен на сайте АМЕ.
Выводы и заключения
Технологическая группа Advanced Manufacturing Engineering (AME) занималась оценкой технологии встраивания пассивных компонентов как части технологии кардинальных изменений правил игры.
Технология встраивания пассивных компонентов — это жизнеспособная технология, которая надежно использовалась в оборонной и авиационной отраслях в последние 20 лет. Ценность технологии ЕРТ — в освобождении пространства на переполненной печатной плате, где необходимы более активные компоненты. Встроенные резисторы и конденсаторы могут увеличить функциональность платы без увеличения ее размера. Это также обеспечивает лучшую производительность сигнала, снижает перекрестные и паразитные помехи. ЕРТ может увеличить надежность за счет сокращения поверхностно монтируемых компонентов и дефектов, связанных с процессами монтажа, такими как размещение и пайка.
Многие производители печатных плат в США уже имеют опыт использования технологии встраивания пассивных компонентов. Помощь для проектировщиков, включая калькулятор резистора Ticer, можно найти на сайте АМЕ.
Литература
1. Integrated passive Component technology. R. Ulrich and L. Schaper editors. Wiley-IEEE Press, 2003.
2. Marcanti L., Dougherty J. Embedded passives: promissing improved performance. Circuits Assembly, July 2001.
3. Ticer technologies, next generation Integrated thin Film Resitor.
4. TCR resistor calculator — ATP Applied thin-Film Products
5. Laser resistor trimming design rules.
6. Wang J., Davis M., Hilburn R., Clouser S. Power Dissipation of embedded resistors. IPC, 2003.
7. Davis M., Wang J. Heat dissipation of laser trimmed resistors. Gould Electronics, March 2002.