В последнее время карбид-кремниевая технология становится всё более и более востребованной при разработке низковольтных приложений, поэтому проектировщикам необходимо точно знать, когда традиционные кремниевые MOSFET должны быть заменены на карбид-кремниевые транзисторы.
Вследствие непрерывного улучшения характеристик импульсных источников питания (ИПП) при использовании кремниевой технологии, КПД таких устройств приблизился к максимально возможному.
Это произошло благодаря освоению новых технологий в производстве полупроводниковых устройств, использованию новых способов проектирования и применению новых топологий ИИП. Не так давно были созданы новые технологии изготовления полупроводниковых материалов с большой шириной запрещенной зоны. Именно такой технологией является карбид-кремниевая.
Полупроводниковые компоненты, произведённые по карбид-кремниевой технологии, обладают особыми свойствами, дающими разработчикам возможность проектировать устройства, имеющие большую эффективность.
Тем не менее, есть и минусы: цена карбид-кремниевых компонентов выше, чем у обычных кремниевых. С тех пор как помимо имеющихся SiC MOSFET на 1200 В были созданы 650-вольтовые компоненты, использование карбид-кремниевых полупроводниковых устройств стало возможным во многих приложениях, где ранее такое решение даже не принималось в расчёт.
Источник: rlocman.ru