Так, в 2024 году зам. министра промышленности и торговли РФ сообщил о двух литографических сканерах, которые разрабатываются отечественными специалистами и будут запущены в ближайшие два года после прохождения всех требуемых испытаний.
Первый литограф позволит изготавливать чипы с размером элементов 350 нанометров. Эта технология востребована в отрасли автомобилестроения, энергетической промышленности и телекоммуникационной сфере. На глобальном рынке сегодня существуют всего несколько компаний, способных произвести литограф подобного типа, главной из которых является ASML (Нидерланды) с производственными мощностями, размещёнными как в США, так и в Европе. Лидеры прошлых лет — Canon и Nikon — уже сдали свои позиции, а китайские производители еще не достигли требуемого уровня технической оснащённости, хотя следует признать, что их возможности быстро расширяются.
Вторым создаваемым в России литографом является система, использующая синхротронное излучение. По словам разработчиков, проект будет реализован к 2026 году. Более подробная информация на сегодняшний день является конфиденциальной.
По материалам 3dnews.ru