По задумке создателей, проект предполагает применение литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) и иммерсионной литографии с длиной волны источника 193 нм (193i). В процессе разработки микросхемы были использованы программные пакеты Cadence Innovus Implementation System и Genus Synthesis Solution.
Тестовым изделием, на котором специалистами Imec было решено отрабатывать новую технологию, стал обычный 64-разрядный CPU. При этом была создана специальная библиотека стандартных элементов, рассчитанных на нормы 3 нм, и слой металлизации с шагом разводки 21 нм.
Источник: russianelectronics.ru