Время проведения: 21 – 25 августа 2011 г.
Место проведения: Сан-Диего (Калифорния, США) в выставочном центре San Diego Convention Center
Крупнейшая международная выставка/конференция в области фотоники, оптики, фотогальваники и наноинженерии "SPIE Optics+Photonics 2011".
Тематические разделы выставки:
Сайт выставки: spie.org.
Стек печатной платы — ключевой этап проектирования, определяющий расположение слоёв, материалы и структуру платы. От грамотного выбора стека зависят…
Студенты Московского авиационного института разработали прототип программы, предназначенной для восстановления потерянных данных о положении…
Команда американских учёных продемонстрировала фотонное устройство микронного масштаба на основе тонкоплёночного ниобата лития. Разработка генерирует…
Статья посвящена свойствам сверхнизких орбит и их влиянию на процессы проектирования и производства космических аппаратов.
На съезде Союза машиностроителей России были озвучены сроки начала отгрузок импортозамещённых самолётов SJ-100. Планируется, что поставки стартуют в…
Спрос на гибкие и носимые электронные устройства — смарт-часы, биомедицинские датчики — продолжает расти. Для их создания требуются транзисторы,…
Семь советов проектировщикам.