SPIE Optics+Photonics 2011

Время проведения: 21 – 25 августа 2011 г.
Место проведения: Сан-Диего (Калифорния, США) в выставочном центре San Diego Convention Center

Крупнейшая международная выставка/конференция в области фотоники, оптики, фотогальваники и наноинженерии "SPIE Optics+Photonics 2011".

Тематические разделы выставки:


  • Наука и инженерия в области нанотехнологий (NanoScience + Engineering)
  • Солнечная энергетика и технология (Solar Energy + Technology)
  • Устройства и применение фотоники (Photonic Devices + Applications)
  • Оптическая инженерия и применения (Optical Engineering + Applications)

Сайт выставки: spie.org.

Задать вопрос Новости

Стек печатной платы — ключевой этап проектирования, определяющий расположение слоёв, материалы и структуру платы. От грамотного выбора стека зависят…

Студенты Московского авиационного института разработали прототип программы, предназначенной для восстановления потерянных данных о положении…

Команда американских учёных продемонстрировала фотонное устройство микронного масштаба на основе тонкоплёночного ниобата лития. Разработка генерирует…

Статья посвящена свойствам сверхнизких орбит и их влиянию на процессы проектирования и производства космических аппаратов.

На съезде Союза машиностроителей России были озвучены сроки начала отгрузок импортозамещённых самолётов SJ-100. Планируется, что поставки стартуют в…

Спрос на гибкие и носимые электронные устройства — смарт-часы, биомедицинские датчики — продолжает расти. Для их создания требуются транзисторы,…