SPIE Optics+Photonics 2011

Время проведения: 21 – 25 августа 2011 г.
Место проведения: Сан-Диего (Калифорния, США) в выставочном центре San Diego Convention Center

Крупнейшая международная выставка/конференция в области фотоники, оптики, фотогальваники и наноинженерии "SPIE Optics+Photonics 2011".

Тематические разделы выставки:


  • Наука и инженерия в области нанотехнологий (NanoScience + Engineering)
  • Солнечная энергетика и технология (Solar Energy + Technology)
  • Устройства и применение фотоники (Photonic Devices + Applications)
  • Оптическая инженерия и применения (Optical Engineering + Applications)

Сайт выставки: spie.org.

Задать вопрос Новости

Первый отечественный 8-кубитный квантовый процессор был создан и протестирован специалистами Дизайн-центра квантового проектирования НИТУ МИСИС при…

Российские учёные из НИИ ПМЭ МАИ создали  высокочастностный ионный двигатель с электродами из углерод-углеродного композиционного материала, который…

В статье, переведённой специалистами А-КОНТРАКТ, подробно рассматриваются факторы, определяющие расстояние между проводящими дорожками высоковольтных…

Исследователи из Томского Политехнического Университета разработали технологию изготовления углерод-полимерного композита на основе асфальтенов,…

Высокочистый арсенид галлия – специальный материал, который используется для создания СВЧ электроники и лазерной техники.

 

Специалисты ЦНИТИ «Техномаш» (холдинга «Росэлектроника») создали российскую технологию производства полимерных диэлектриков. Изготавливаемые материалы…

Российские инженеры разработали одноплатный компьютер, размер которого составляет всего 40×40 мм. Это миниатюрное устройство может быть использовано в…