SPIE Optics+Photonics 2011

Время проведения: 21 – 25 августа 2011 г.
Место проведения: Сан-Диего (Калифорния, США) в выставочном центре San Diego Convention Center

Крупнейшая международная выставка/конференция в области фотоники, оптики, фотогальваники и наноинженерии "SPIE Optics+Photonics 2011".

Тематические разделы выставки:


  • Наука и инженерия в области нанотехнологий (NanoScience + Engineering)
  • Солнечная энергетика и технология (Solar Energy + Technology)
  • Устройства и применение фотоники (Photonic Devices + Applications)
  • Оптическая инженерия и применения (Optical Engineering + Applications)

Сайт выставки: spie.org.

Задать вопрос Новости

Отечественные учёные из МФТИ разработали новый двумерный материал, который может быть использован при создании гибкой электроники и оптоэлектроники.

Специалисты Университета МИСИС создали новый суперконденсатор, обладающий большими, чем у аналогов, ёмкостью и долговечностью.

Отечественное оборудование модели V 700 для предприятий отрасли авиастроения было разработано в Госкорпорации Ростех. Новый обрабатывающий центр…

Самым дорогим и трудоемким этапом в процессе производства печатных плат является сверловка отверстий. Этой процедуре необходимо уделять особое…

Учёные из МТИ (Массачусетского технологического института) разработали технологию создания транзисторов с применением сегнетоэлектрического материала.…

В рамках программы импортозамещения электронной компонентой базы российские учёные приступили к разработке отечественных микроэлектромеханических…

Российские учёные разрабатывают органические полупроводниковые материалы. Ключевой задачей проекта является создание микрочипов на основе углеродных…